SKB TR-22-05
Creep rate in Cu-OFP under applied electrochemical potential and presence of sulphide
2022
Ikäläinen, Tiina; Saario, Timo; Que, Zaiqing
Publikationer | Antal |
---|---|
Beställningskorgen är tom | |
Laddar... |
Ange dina adressuppgifter nedan, tvingande fält är markerade med *.
Dina uppgifter sparas och används för distribution av eventuellt kommande erratablad till den publikation du beställt, och används endast för detta ändamål. Genom att göra en beställning godkänner du lagring av dina personuppgifter för detta ändamål. Du kan närsomhelst få dina personuppgifter raderade genom att mejla till oss på rapport@skb.se. Fördjupad information om dina personuppgifter och dataskydd kan du läsa här.